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导电玻璃激光刻蚀机的选型介绍

发布时间:2020-04-15 来源:元禄光电

导电玻璃是指透明导电氧化物,如氧化铟锡ITO、掺杂氟的SnO2 FTO、氧化锌ZnO、氧化镍NiO、纳米银等,部分为铜、铝、金等材料,以玻璃为基材,通过磁控溅射等方式将导电材料生长在玻璃上的产品,常用于触摸屏、光伏太阳能电池、户外显示、航空航天等诸多领域当中。

 

导电玻璃在产品成型之前需要对其进行刻蚀加工,形成电路图,光伏行业主要是划线,做成一个个小单元的电极,增大电压,无论哪一个应用领域,都需要对其进行刻蚀加工。目前刻蚀工艺主要分为激光刻蚀、等离子刻蚀、化学刻蚀以及机械划线等几种方式,武汉元禄光电为大家介绍几种刻蚀的方法、优缺点以及重点介绍激光刻蚀机的选型。

 

化学刻蚀:优点是加工速度快,一次成型,适合大面积加工;缺点是添加剂具有毒性,并且具有一定的污染性,操作流程相对复杂,对掩膜版要求高,不具备超精密微纳结构的加工能力。

 

等离子刻蚀:超细微精密刻蚀,刻蚀线宽达到纳米级,精度高;缺点是成本高,对使用环境等诸多要素都有极高要求。

 

机械划线:主要优势是成本低廉;缺点也显而易见,对基材的损伤、线宽控制、精度控制、效果控制都不如其他加工,早期常应用于光伏太阳能划线。

 

激光刻蚀:分为干法刻蚀和黄光曝光两种,黄光曝光的优势在于一次成型,精度高、刻蚀效果好、精细,缺点是成本相对较高,具备污染性。干法刻蚀是指激光直接入射在材料表面无需任何添加剂,通过高能量的光束汽化材料,形成线路或断路,相比较于其他几种工艺,在导电玻璃行业中可谓星光熠熠,处处优势明显,也是目前整个行业领域内最主流的机器。

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激光刻蚀机

激光刻蚀机的主要优点是操作简便,导入CADGerber文件,通过振镜偏转、配合XY轴移动形成大面积的刻蚀成型,无耗材、无污染,刻蚀干净,最小线宽可达到亚纳米级别,目前武汉元禄光电普通振镜扫描方式,导电ITO玻璃最小线宽在3微米,而在实验室内最小可达700nm线宽,特别适合于导电玻璃微纳激光刻蚀。

 

激光刻蚀机用于导电玻璃行业中主要激光波段为1064/532/355nm纳秒、皮秒激光刻蚀机以及1030/515nm/355nm波段的飞秒激光刻蚀机,根据不同的应用场景需求,配置不同的激光器,并且会根据实际需求选择不同的光学器件,如扫描幅面、扩束倍数、加工面积等条件。

 

一般来说,激光刻蚀机的参考选型主要参考因素是导电玻璃的材料、幅宽、线宽、线间距要求,至于说材料的厚度一般都是在几百微米范围内,有的甚至只有几个纳米,对于激光刻蚀机来说不难加工,主要还是看热影响范围区域,加工后的线宽、线间距以及线性直线度、加工精度以及误差等影响。

 

因此确定激光刻蚀机的选择需要明确以上几点,根据需求推荐对应的机器类型,一般来说红外1064纳秒激光刻蚀机主要适用于20微米以上线宽的加工要求,飞秒激光刻蚀机主要适用于多层材料的导电玻璃激光刻蚀,如特殊需求仍需以实验试样为准。

 

推荐产品:飞秒激光刻蚀机

 


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